Defeng sugere tomar decisões a partir das quatro dimensões a seguir:
Requisitos de precisão
Se o requisito de largura/espaçamento da linha for inferior a 10 μm, ou se a nitidez da borda do gráfico for extremamente alta, o método fotoquímico deverá ser selecionado. Se estiver acima de 20 μm e for insensível a serrilhados nas bordas, a serigrafia é totalmente capaz.
Requisito de espessura do filme
Se a espessura da camada de tinta/pasta a ser impressa exceder 10 μm (ou mesmo 50 μm ou mais), a serigrafia é uma escolha mais adequada. O método fotoquímico tem capacidade limitada em filmes espessos.
orçamento de custos
Se o projeto for altamente sensível aos custos, ou se o preço unitário do produto for baixo e exigir extremo controle dos custos de fabricação, as vantagens da serigrafia são enormes. O alto investimento do método fotoquímico só é adequado para produtos de alto valor agregado.
Substrato e Forma
Se o substrato for irregular, curvo ou o material não for adequado para processos de fotolitografia (como têxteis, certos plásticos), a serigrafia é quase a única opção.
A comparação entre serigrafia e fotolitografia é essencialmente uma distinção entre os dois caminhos de “extrema precisão” e “custo-benefício”: a fotolitografia usa controle óptico e químico preciso para esculpir o mundo microscópico em pastilhas de silício; A serigrafia usa um método conciso de extrusão física para replicar gráficos com eficiência em uma ampla superfície de materiais. A diferença de precisão é fundamental e estrutural, mas a simplicidade do processo, o baixo custo e a produção em larga escala deram à serigrafia uma posição insubstituível na produção industrial que não pode ser substituída por métodos fotoquímicos.
Num nível mais profundo, a escolha do processo de fabrico nunca foi uma questão de “quem é mais avançado”, mas sim uma questão de “o que é mais adequado”. Nas áreas de energia fotovoltaica, embalagens, têxteis, cerâmica, eletrônica de filmes espessos, etc., a serigrafia atende a enormes demandas de subsistência e fundações industriais com processos minimalistas e custos extremamente baixos. Não precisa competir com o método fotoquímico na mesma pista, pois está percorrendo um caminho mais largo.
